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「ＥＵＶ露光装置」 いーゆーぶいろこうそうち
半導体製造工程に用いてシリコンウエハーに回路パターンを描写する露光装置のうち、極端紫外線と呼ばれる非常に短い波長の光を用いたもの。従来の露光装置では加工が難しいより微細な寸法の加工ができる。オランダのASMLが世界シェアトップに位置する。
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