半導体露光装置大手の蘭ＡＳＭＬは日本法人の人員を２０２６年末までに現在の約１・５倍となる約６００人規模まで増やす計画だ。２４年中にはラピダス（東京都千代田区）が北海道のパイロットラインに、日本で初めて極端紫外線（ＥＵＶ）露光装置を導入。２５年には米マイクロン・テクノロジーも広島県内の工場に導入する計画。先端半導体の製造に不可欠な同装置の技術支援体制を強化し、日本における先端半導体の安定供給を後押しする。

ＡＳＭＬの日本法人はキオクシアやソニーグループ、台湾積体電路製造（ＴＳＭＣ）子会社のＪＡＳＭ（熊本県菊陽町）など、半導体工場がある地域に拠点を構える。９月には、ラピダスが工場を建設する北海道千歳市にも進出を予定し、全国８カ所に拠点を持つことになる。

ＡＳＭＬが人員強化に動く背景には、日本政府の補助金などを受けて各地で半導体工場の建設が拡大し、日本でＥＵＶ露光装置の導入が進むことがある。２４年にはラピダスが建設中のパイロットラインに導入を計画するほか、ＪＡＳＭが進める熊本県菊陽町の第２工場でも同装置が導入される見通しだ。今後数年で同装置の稼働が急増するため、装置の立ち上げや保守点検の体制を強化する。

ＡＳＭＬは千歳市に拠点を開設した後、最大３０人程度がラピダスのパイロットライン構築を支援する。量産開始までに５０人程度まで増やす。このほか広島県や熊本県でも人員を増やす予定だ。

ＡＳＭＬは世界で唯一、ＥＵＶ露光装置を製造できる企業。同装置は、プロセスノードが７ナノメートル（ナノは１０億分の１）以下の先端半導体の製造には不可欠だ。

調査会社マーケッツアンドマーケッツの情報サービス「ナレッジストア」によると、ＥＵＶ露光装置市場は２３年から２８年にかけて年平均で２１％成長し、２８年に２５２億ドル（約４兆円）に拡大すると予測する。