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化学反応シミュレーション速度10万倍以上、レゾナックがAIで半導体材料開発を効率化

2024年08月22日 テクノロジー
化学反応シミュレーション速度10万倍以上、レゾナックがAIで半導体材料開発を効率化
CMPスラリーによりシリコンウェハー表面が研磨される際のシミュレーション
  • 化学反応シミュレーション速度10万倍以上、レゾナックがAIで半導体材料開発を効率化
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