コフロック（京都府京田辺市、小島望社長）は、薬液や純水の使用量を減らしたい半導体洗浄装置向けに新型流量制御クリーンバルブを開発した。駆動部にソレノイドアクチュエーター（電磁石応用作動機構）を採用し、毎分数ミリリットルの微少流量からの精密制御を実現した。バルブ部は不純物（コンタミ）残留がない独自構造で、流れの遮断と流量制御の役割を担うため、装置の設計自由度も高い。半導体製造分野での環境負荷低減ニーズを取り込む。

ソレノイドアクチュエーター駆動のダイヤフラム式流量制御バルブ「ＫＳＦＶ―１００」として商品化し、２０２４年１月にも市場投入する。価格は今後詰めるが、モーター駆動で流量制御が毎分数十ミリリットルからだった一般的な従来品よりは若干高くなる。年間４０００台の販売を目指す。

流量制御用とシャットオフ用でバルブを２００台ずつ使う半導体洗浄装置の場合、両役割が担える新製品ならバルブ総搭載数を半減できる。バルブや継ぎ手の数が減らせて配管の組み立て工数の簡素化なども見込め、設置費用を含むトータルコストを低減できるという。

バルブ開度を無段階制御できるソレノイドアクチュエーターにより、毎分５００ミリリットルまでの範囲で精密な流量制御が可能。従来の駆動部は同アクチュエーターより精密制御で劣るが、流量範囲の上限で勝るモーターが一般的。だが、少ない薬液流量でしっかり洗える技術開発が進む中、バルブにも精密制御が求められており、ニーズに応える。

半導体洗浄装置をはじめとする半導体市場向けのほか、分析機器や医療機器、研究開発分野など、幅広く提案、展開していく方針。