レーザーテックは自社開発の高輝度極端紫外線（ＥＵＶ）プラズマ光源を標準搭載したＥＵＶ露光用マスクパターン欠陥検査装置「ＡＣＴＩＳ　Ａ３００＝写真」の受注を始めた。高速回転するルツボ内面の溶融スズ（Ｓｎ）にレーザーを照射してＥＵＶ発光させる独自のレーザー生成プラズマ（ＬＰＰ）方式により、検査範囲を高輝度で照らし出す。従来機種に比べ検出性能を高め、次世代半導体の微細化プロセスと高開口数（ＮＡ）ＥＵＶ露光に対応する。価格は個別見積もり。

ＥＵＶ露光は回路線幅７ナノメートル（ナノは１０億分の１）以下の微細プロセスに対応する半導体加工技術。ＡＣＴＩＳシリーズはパターン付きマスクの検査を露光光源と同じＥＵＶで行う装置。Ａ３００は従来型のＥＵＶ露光に加え、Ｘ・Ｙ方向で投影倍率が異なるアナモルフィック光学系を採用した高ＮＡのＥＵＶ露光用マスク検査に対応できる。

１３日から東京ビッグサイト（東京都江東区）で開かれる半導体製造技術の展示会「ＳＥＭＩＣＯＮ　ＪＡＰＡＮ　２０２３」にＡＣＴＩＳ　Ａ３００を出展する。