レーザーテックは半導体向け極端紫外線（ＥＵＶ）露光用パターン付きマスクの欠陥を高感度で検出できる高輝度ＥＵＶプラズマ光源「ＵＲＡＳＨＩＭＡ（ウラシマ）」を自社開発し、検査装置「ＡＣＴＩＳシリーズ」に搭載した。高速回転するルツボ内面の溶融スズ（Ｓｎ）にレーザーを照射してＥＵＶ発光させる独自のレーザー生成プラズマ（ＬＰＰ）方式により、検査範囲を高輝度で照らし出す。光学系を簡素にすることが可能になり、新光源を前提に装置の小型化も進める。

２０１９年に製品化したＡＣＴＩＳシリーズは、露光装置にも使われるＥＵＶプラズマ光源を調達して開発。真空中に吐出した直径４０ナノメートル（ナノは１０億分の１）程度の溶融Ｓｎをターゲットに、レーザーを２段階に分けて照射しＥＵＶ発光させている。露光装置に使われる光源であるため照明を検査範囲に絞り込みにくく、マスク表面に装着するペリクル（防塵保護膜）への入熱負荷が大きくなる問題もあった。

ＵＲＡＳＨＩＭＡは小出力のレーザー照射１回だけで発光するため「従来の光源に比べ消費電力は約３分の１」（西沢正泰技術五部スタッフエンジニア）。また、「スズを効率的にプラズマ化するため、デブリ（飛沫物）が極めて発生しにくく、それも高速回転するルツボの遠心力で排除できる」（同）としている。（横浜）