三菱電機は人工知能（ＡＩ）サーバー向けとして、応答速度を従来比２倍に高めた伝送速度２００ギガｂｐｓ（ギガは１０億）の半導体レーザー「ＥＭＬ（電界吸収型変調器付きレーザー）」を月内から量産する。２００ギガｂｐｓに必要な応答速度と、高い光の強さ（消光比）を両立し、低消費電力と小型化を実現した。電気と光を変換する光トランシーバーなどの光源として、海外ＩＴ大手のＡＩサーバー間における近距離光通信用途を想定する。

三菱電機の高周波光デバイス製作所（兵庫県伊丹市）で量産する。実際にＡＩサーバーに組み込まれるのは１０月以降を想定する。三菱電機はデータセンター（ＤＣ）向けＥＭＬで市場シェアを約５０％占める最大手に位置する。

生成ＡＩの需要の急拡大により、一般のサーバーより計算能力と処理速度を大幅に高めたＡＩサーバーの需要も増大している。ＡＩサーバー向けでも高い市場シェアを維持し、存在感を高めていく。

三菱電機のＥＭＬは、波長安定性の高い分布帰還型（ＤＦＢ）レーザーと、光信号を生成する電界吸収型光変調器（ＥＡＭ）を集積し、一つのチップとしたデバイス。伝送速度が２５ギガ―５０ギガｂｐｓのＤＦＢレーザーだけと比べ、高速・長距離伝送が可能になる。結晶成長や成膜、エッチングなどを数百工程繰り返して製造するなど、「製造プロセスでさまざまな工夫をしている」（同社）のが強みだ。

現在、ＥＭＬの伝送速度は１００ギガｂｐｓが主流とされる。三菱電機は次世代の２００ギガｂｐｓのほか、さらに次の世代の４００ギガｂｐｓのＥＭＬの開発も視野に入れている。