日本ガイシは１５０億円を投じ、本社地区（名古屋市瑞穂区）の研究開発拠点を拡充する。既に表明している半導体ウエハーの研究開発棟に加え、セラミックス製の二酸化炭素（ＣＯ２）吸着材と分離膜を開発する拠点や社内外との交流を促す拠点（写真）を構える。１１月に稼働した吸着材の拠点を除き、２０２５年の稼働を予定する。自動車向け製品を中心とした事業構造からの転換を加速させる。

本社地区内にある自動車排ガス浄化装置の開発・生産施設を再編するなどして新拠点を設置する。吸着材や分離膜の開発拠点では、同浄化装置を応用した製品の開発や試作に取り組む。

社内外との交流拠点には、製品・技術の展示場や会議室を設置する。３階建ての建屋は延べ床面積約４３５０平方メートルを予定。先進的なデザインとすることで「会社の文化・イメージを刷新する」（岩崎良平副社長）狙いだ。