東北大学の吉松公平講師と組頭広志教授らは、準安定相であるラムダ型五酸化三チタンの高品質単結晶薄膜の形成に成功した。五酸化三チタンは光刺激で最安定相のベータ型と準安定相のラムダ型の間で結晶構造が切り替わる。酸化チタンという安価で安全な元素で光記憶素子を作製できる可能性がある。

パルスレーザー堆積法という成膜技術で５ミリメートル角の基板にラムダ型五酸化三チタンを形成した。厚みは約１００ナノメートル（ナノは１０億分の１）。従来は数ナノメートルサイズのナノ粒子しか合成できていなかったという。ナノサイズからミリサイズになり１００万倍ほど大きくなった。

五酸化三チタンは光や電流、圧力などの刺激で結晶構造が変化する。ラムダ型は大きな刺激があると最安定相に変化する準安定相。今後、最安定相と準安定相の性質の差やスイッチング速度を明らかにして記憶素子などへの可能性を探る。

現行の書き換え可能な光ディスクはアンチモンやテルルなどの元素を利用していた。酸化チタンで代替できるとコストを抑えられる可能性がある。