旭化成は２０２４年度下期から、直径４インチ（１００ミリメートル）の窒化アルミニウム（ＡｌＮ）単結晶基板のサンプル提供を始める。ＡｌＮ基板の使用可能面積を従来の８０％から９９％以上に拡大することに成功した。２７年の実用化に向け、顧客ニーズを捉えつつ研究開発を加速する。

子会社の米クリスタル・アイエス（ニューヨーク州）が手がける。ＡｌＮは炭化ケイ素（ＳｉＣ）や窒化ガリウム（ＧａＮ）に比べて電力損失が少ないなどの特徴があり、パワー半導体向けなどでの需要を想定する。実用化には大口径化が重要で、２３年８月には４インチ化に世界で初めて成功した。半導体デバイスメーカーへのサンプル提供を通じ、コスト面などの改善につなげる。

４インチのＡｌＮ基板は深紫外線（ＵＶ―Ｃ）発光ダイオード（ＬＥＤ）向けでも使用する考えだ。