大日本印刷（ＤＮＰ）は２７日、極端紫外線（ＥＵＶ）リソグラフィーに対応した２ナノメートル（ナノは１０億分の１）世代のロジック半導体向けフォトマスク（半導体回路の原版）製造プロセスの開発を始めたと発表した。２０２７年度に国内で量産開始を目指す。同社はラピダス（東京都千代田区）が新エネルギー・産業技術総合開発機構（ＮＥＤＯ）から受託した「ポスト５Ｇ情報通信システム基盤強化研究開発事業」に再委託先として参画しており、技術提供はその一環。

ＥＵＶ露光に対応するＥＵＶマスクは描画パターンが多く、描画時間を大幅に短縮できるマルチ電子ビーム描画装置での製造が主流。ＤＮＰは上福岡工場（埼玉県ふじみ野市）で１台が稼働中のほか、２台目も国内で稼働済み。２４年度中に３台目の稼働も計画する。

同社は２３―２５年度に半導体関連で２００億円を投資する。ＥＵＶ露光の周辺技術開発の支援なども含めＥＵＶマスクで３０年に年間１００億円の売り上げを目指す。

ＤＮＰはベルギーに本部を置く半導体の国際研究機関ｉｍｅｃと共同で２ナノメートル世代以降を見据えた開発にも着手している。