東芝は２０１７年度にも、キヤノンと共同開発した次世代半導体露光装置をＮＡＮＤ型フラッシュメモリーの量産ラインに採用することを決めた。「ナノインプリント露光（用語参照）」技術を使った装置で、量産での利用は電機業界初。東芝はメモリーの製造コスト低減の切り札と位置づけ、経営再建の柱であるメモリー事業の収益力向上につなげる。キヤノンはナノインプリント露光装置を次世代の主力事業に育てる

　東芝は１７日に建設を発表した新工場（三重県四日市市）にナノインプリント露光装置を導入する。記憶素子を積層する３Ｄ（３次元）構造ＮＡＮＤメモリー生産の露光工程の一部で活用する。

【用語】ナノインプリント露光＝回路パターンを彫り込んだ型を半導体ウエハーに押しあてて転写する技術。光で回路パターンを焼き付ける既存技術に比べ、高精度レンズなどが不要で装置価格が安い。また転写精度が高く回路線幅の微細化を進めやすいメリットもある。一方、回路パターンの一部が壊れる欠陥などの課題があり量産工程での実用化が難しかった。
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