東京エレクトロンは、２０２７年３月期までの５カ年の中期経営計画を発表し、研究開発投資に総額１兆円以上を投じる方針を明らかにした。２２年３月期までの５年間に比べて約７割増となる。２７年３月期に連結売上高３兆円以上（２２年３月期比約５０％増）、営業利益率３５％以上（同５・１ポイント増）を目指す。ＲＯＥ（自己資本利益率）は中計期間中を通じ３０％以上を目標とする。

８日会見した河合利樹社長兼最高経営責任者（ＣＥＯ）はデジタル化の進展や半導体の性能向上などを背景に製造装置市場は成長が続くとした上で「付加価値の高い次世代装置を投入することで市場シェアを高め、業績目標の達成につなげたい」とした。

先行投資を通じ、半導体技術の進化に迅速に対応できる体制を強化する。同社は塗布現像装置で約９割、一部の成膜装置で約５割、エッチング装置で約３割の世界シェアをそれぞれ握る。

課題の部材不足に対しては、２年分を目標に部品の先行手配を行いつつ、工場間で在庫を融通するなど全体の在庫量は削減する。

現在約３週間―３カ月かかっている装置の立ち上げ工期については人工知能（ＡＩ）を装置に搭載し、自動でセットアップできるようにするなどで短縮する。株主還元は従来方針を据え置く。連結配当性向は５０％をめどとし、１株当たりの年間配当金を１５０円を下回らないようにする。