リンテックは極端紫外線（ＥＵＶ）露光装置向けに、フォトマスク（半導体回路の原版）の防塵カバー「ペリクル」を開発した。高い耐久性を持つカーボンナノチューブ（ＣＮＴ）を使用し、ポリシリコンなどを使う従来品よりも耐熱性を２倍に高めた。約５０億円を投じ、２０２５年度までに量産体制を築く。

ペリクルは微細パターンが描かれたフォトマスクの表面に装着する薄い保護膜で、異物の付着を防ぐことでフォトマスクの検査・交換頻度を低減する。リンテックは半導体回路パターンの微細化に対応できるＥＵＶ露光装置で、開発したペリクルの使用を想定。露光工程の生産性向上に寄与する。

同社がペリクルの素材に用いたＣＮＴは、直径がナノメートル（ナノは１０億分の１）レベルの炭素材料。高温環境で使用しても化学変化や強度低下が起きにくく、厳しい環境下での利用にも適している。ＥＵＶ露光プロセスではこれまでのフッ化アルゴン（ＡｒＦ）液浸など旧来型の露光装置向けと異なり、ペリクルの耐熱性を高める必要があった。