ＡｒＦ液浸露光装置の需要が好調だ。オランダのＡＳＭＬはこのほど先端半導体の製造に不可欠なＥＵＶ露光装置について、足元の需要鈍化などを反映して２０２３年１２月期（今期）の出荷予想を下方修正。一方、ＡｒＦ液浸などＥＵＶ以外の露光装置の今期の売上高見通しを引き上げた。中国向けの活況が背景にある。ただオランダでは９月１日に半導体製造装置の新たな輸出規制が施行され、ＡｒＦ液浸露光装置の中国輸出も許可申請する必要が生じる。今後、どの程度影響が生じるかは不透明だ。

光源に化合物のフッ化アルゴンを用いたＡｒＦ液浸露光装置は、ＥＵＶより一世代前の露光装置。自動車や産業機器など幅広い最終製品に搭載される半導体の製造に用いる。米国が２２年１０月に先端半導体関連の対中輸出規制を強化して以降、中国の半導体メーカーは２０ナノ―４０ナノメートル（ナノは１０億分の１）世代の非先端半導体の生産に力を入れる姿勢を鮮明にしており、ＡｒＦ液浸露光装置の需要が増えている。

ＡＳＭＬは１９日の決算発表で、２３年１２月期の非ＥＵＶ露光装置の売上高について、前期比３０％増としていた従来の見方を同５０％増に引き上げた。前期に収益認識できなかった分などが含まれてはいるが、活発な需要による部分も大きい。２３年４―６月のＡｒＦ液浸露光装置の販売台数は３９台と、前年の同じ時期（２１台）より増加。２３年１―３月（２５台）の実績も上回った。販売単価も１―３月の１台６４００万ユーロ（約１００億円）から４―６月は同７０００万ユーロに上昇しており、値上げが浸透している。

一方、先端のＥＵＶ露光装置は一服感が目立つ。ＡＳＭＬは２３年１２月期の出荷台数予想を約６０台から約５２台に下方修正した。先端半導体の工場新設計画が相次ぐ米国で、人手不足や資材価格の高騰で一部メーカーの工場建設に遅れが出ている。ＥＵＶ露光装置を設置するための熟練工も不足している模様だ。中期的にはＥＵＶ装置は成長が期待できるものの、足元では慎重な見方が広がっている。