パナソニックは、活性物質の「ＯＨラジカル」の生成量が同社従来比約１００倍となる、脱臭や菌抑制などに効果がある微粒子イオン「ナノイーＸ」の新デバイスを開発した。山形大学の東山禎夫名誉教授との共同開発。外出自粛やテレワーク浸透など生活様式の変化による在宅時間増を背景に、より良い空気環境への需要取り込みを目指す。

新技術搭載の第１弾の製品として、加湿空気清浄機を９月２１日に発売する。

新ナノイーＸデバイスは、従来の同デバイスの４本針形状の対極板を用いた集中放電、マルチリーダー放電から、円周状に放電してＯＨラジカル生成領域を増加させたラウンドリーダー放電にした。ＯＨラジカル生成量は同社従来比約１００倍の毎秒４８兆個に増加している。

スギ花粉は同８分の１となる３時間で９９％以上の抑制を確認した。付着したカビ菌も、２時間で発育の抑制を確認している。