住友化学は直径６インチの窒化ガリウム（ＧａＮ）基板（写真）の実用化に向けて研究開発を加速する。ＧａＮ基板の研究開発テーマが、新エネルギー・産業技術総合開発機構（ＮＥＤＯ）の公募プロジェクトに採択された。パワーデバイス向けでのＧａＮ基板にＧａＮ層をエピタキシャル成長させた構造である、ＧａＮオンＧａＮウエハーの大口径化に取り組む。２０２４年度中に同ウエハーのサンプル提供を開始し、２８年度中の量産化を目指す。

ＮＥＤＯのプログラムでは、ＧａＮ基板とＧａＮ成長層のそれぞれで技術改良に取り組む。ＧａＮ基板ではＧａＮ結晶の長尺化や品質向上などを狙い、ＧａＮ成長層では改良したハイドライド気相成長（ＨＶＰＥ）法による量産化を目指す。住友化学が持つ、プロジェクターの光源となるレーザーダイオード向け２インチのＧａＮ基板の実績やノウハウも生かす考えだ。

ＧａＮオンＧａＮウエハーは、ＧａＮ基板の上にＧａＮを積んで垂直に電気が流れる「縦型」のデバイスを実現でき、高耐圧で大電流対応に優れる点が特徴だ。電気自動車（ＥＶ）向けなどの用途での活用が期待されている。ＧａＮ基板関連では、三菱ケミカルグループなども研究開発に取り組んでいる。