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半導体関連で30億円新棟、堀場エステックが次世代技術の開発強化

半導体関連で30億円新棟、堀場エステックが次世代技術の開発強化

研究開発新棟(右)と既存棟完成イメージ

堀場エステック(京都市南区、堀場弾社長)は20日、京都府福知山市の研究開発拠点を拡張すると発表した。隣接地に新棟を建て、既存棟も改修する。2024年1月に着工、25年4月に竣工する予定。総投資額は約30億円。同社は堀場製作所子会社で、半導体製造装置向けマスフローコントローラーなどを手がける。13年に開設した同拠点を拡張し、コア技術であるガス流量制御や液体気化技術の高度化、次世代技術の強化を図る。

新棟、既存棟ともに2階建てで、2棟合わせた延べ床面積は現状比約4倍の5642平方メートル。従業員数は、28年に現在の3倍超となる70人体制を目指す。

各種実験エリアの拡大に加えて、半導体製造プロセスのモニター評価が可能な実験室や産学との協業ラボスペースを新設。多目的スペースとしても使えるカフェテリアなども備え、快適に働ける環境も整える。


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日刊工業新聞 2023年09月21日

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