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「ナノインプリントリソグラフィ装置」 なのいんぷりんとりそぐらふぃそうち

はんこのようにマスクをウエハーに押しつけ、回路を形成する装置。従来の露光装置に比べ、複雑な回路を一度に形成できるなど製造工程を減らせたり、ＥＵＶ露光装置よりも消費電力を減らせたりするメリットがある。一方、従来の露光装置よりもスループット（処理能力）が低い。また専用のマスクなど、部材や素材の開発も欠かせない。