東京エレクトロンは極端紫外線（ＥＵＶ）露光装置により回路のパターン形成を補正するガスクラスタービーム装置「Acrevia＝写真」の販売を始めた。ＥＵＶ露光とその後のエッチング処理後に同装置を用いてビームを照射することで、線幅の加工と形状の補正を行う。従来、複数回必要だったＥＵＶ露光の工程を削減し、コスト低減に寄与する。

また、同社独自のソフトウエア技術を採用し、ビームを照射する点をスキャンする機構を搭載。任意の加工制御を行えるようにした。ＥＵＶ露光工程の最適化に加え、リソグラフィー欠陥の低減に役立ててもらう。ＥＵＶ露光は先端半導体の製造には不可欠。一方、ＥＵＶ露光装置の運転には大量の電力を使用するなどの課題もある。