信越化学工業は９日、半導体露光材料の製造・開発拠点を群馬県伊勢崎市に建設すると発表した。事業用地は約１５万平方メートル。段階的に投資を実行する計画で、第１期では２０２６年までの完工を目指す。投資額は用地の取得も含め約８３０億円を見込み、全て自己資金で賄う。同材料事業では４番目の拠点となる。

同材料は先端半導体の製造に不可欠で需要が伸びている。

同社は１９９７年に同材料事業を立ち上げ、直江津工場（新潟県上越市）で当時最先端のフッ化クリプトン（ＫｒＦ）フォトレジストの生産を開始。その後もフォトマスクブランクス、フッ化アルゴン（ＡｒＦ）レジスト、多層膜材料、極端紫外線（ＥＵＶ）レジストなどを手がけた。２０１６年に武生工場（福井県越前市）、１９年に台湾の雲林県でも同材料の生産を始めた。

新拠点用地は顧客の要請もあり、リスク分散の観点で複数の候補地から選定した。

今後は同社における半導体材料の先進拠点として位置付け、研究開発などで半導体露光材料以外でも活用する方針。