関東電化工業は半導体製造用エッチングガスを増産する。ヘキサフルオロ―１，３―ブタジエン（Ｃ４Ｆ６）の生産量を２０２３年末までに１・５倍に引き上げるほか、地球温暖化係数（ＧＷＰ）が低い新規エッチングガスを２４年３月までに完成させ、初年度は年１５０トンを供給する。同社は２４年には半導体需要が回復・急増すると予想しており、韓国・中国拠点を含め今後２年間で４００億円以上を投資する。

Ｃ４Ｆ６はシリコンウエハーの表面に回路パターンを形成するエッチング加工の際に使われる特殊ガス。従来は渋川工場（群馬県渋川市）で製造し、２２年４月にそれまでの年２６０トン体制を同４００トンに引き上げた。スマートフォンなどに使われている３Ｄ―ＮＡＮＤ型フラッシュメモリーの多層化が進み、一段と需要が広がると予測。渋川工場に加え、水島工場（岡山県倉敷市）でも生産を始め、２３年末までに年６００トン体制を確立する。

一方の新規エッチングガス「ＫＳＧ―１４＝開発名」は、ＧＷＰ値が１の二酸化炭素（ＣＯ２）より低い数値を実現した地球環境に優しい製品。顧客の半導体メーカーと共同開発し、エッチング性能にも優れているという。現在、水島工場にパイロットプラントを構築して試作品の開発に取り組んでいる。

同社は２５年３月期に売上高１０００億円、営業利益１５０億円を目指す３カ年の中期経営計画に取り組んでいる。「半導体需要は調整局面から増加に転じると予想しており、中期計画の目標値は達成できる」と増島亮司取締役執行役員は話す。